同步辐射X射线光刻机

中国第一台同步辐射光刻装置。中国科学院光电技术研究所张秉华等研制。高精度竖直式工件台系统属国内首创，解决了高精度87°竖直运动工件台的技术难题，现场实测定位精度达到±0.08微米 (max)，在国内居领先地位。用于自动对准的激光一电视系统，采用菲涅耳环对准技术，测量控制精度达到±0.1微米，属国内先进水平。硅片的装卸、自动传输和预定位等分系统所采用的零位光栅和步距细分技术、亚微米级定位闭环控制技术均达到国内先进水平。整机在计算机实时控制下可实现X射线光刻曝光过程自动化运行，一次曝光最小线宽已达到0.1μm的实验结果。该机是北京正负电子对撞机工程的配套项目。是亚微米级 (尤其是0.5μm以下) 光刻最有发展前途的技术之一。获1991年国家重大技术装备成果一等奖。