全息光栅quanxi guangshan

利用两束单色光相干叠加所生全息条纹制成的光栅。普通刻痕光栅是由刻划机刻制的，难免有误差，其中最难避免的是刻线密度的周期性变化和刻痕的不平整，形成谱线中的鬼线和杂散光。而在全息光栅中，由于记录下的是间距相等的干涉条纹，没有上述误差，这是全息光栅的明显优点。制作全息光栅时，首先要在基坯的表面涂上优质光敏材料，然后将其置于单色激光双光束干涉场内进行曝光，经显像与处理，再放入真空系统中镀反射膜和保护膜即得光栅。设光束夹角2θ，则干涉条纹间距即光栅常数d=λ/2sinθ，改变θ或光波长λ即可改变光栅常数。目前已有7000线/毫米的全息光栅，光栅有效面积达600×400毫米。除平面全息光栅外，还有凹面与集光全息光栅。由于全息光栅也可用两球面波制得，这样得到的光栅还有自聚焦能力，用以制造单色仪可以省去准直镜与会聚镜。